彎大禮堂里在座近五百號人,隨便拎出一個都上了十幾二十年的學。
從小到大老師、教授見過的沒百也有一二百,嚴厲的、慈祥的、風趣的、刻板的……
見多識廣到都不需要大腦去分析,只打個照面再听上兩句話,憑潛意識就知道講台上杵著的是個什麼性格,又該拿捏出什麼樣的狀態去應對。
所謂“狀態”,不止是外在表現,還有心弦繃緊的程度。
曲卓並沒有刻意板著臉,語氣听起來也不甚凌厲,但簡單的一番話出口,台下的一眾大齡學子和教職工,下意識就從外在繃緊,變成了內心繃緊。
沒什麼可吹噓的。
連“自古”就自視甚高,且慣會瞎鬧騰的北大學生,某人都能壓得住場,遑論今天這幫已經被人三令五申各種強調和規範後的老學子了。
唯獨一點,沒人想到某人的開場白會如此簡潔干脆。一個個的還等著開場白後鼓掌呢,結果直接就開始了……還沒來得及調整好狀態。
話說,“學識淵博如海”這種話,是能生受的嗎?
不是應該謙虛一下嗎?
你……傳統美德呢?
你得有多自信呀?
一時間,有點冷場……
“呵~”曲卓等了幾秒不見有人發聲,輕笑一聲,嘴里念叨“還挺矜持。哪位有勇氣的,先給大家打個樣兒。”
一句北方方言出口,在座的雖然基本都沒听過,但憑語氣,再結合前面的話,很輕易就能猜測是什麼意思。
按計劃第一個提問的,一位來自于交大半導體專業的博士生,中學生似的舉起右手。
“你。”曲卓抬手示意。
“曲博……教授,我們在試產4英寸 晶圓時,邊緣位錯密度超每平方厘米八百個,良率只有六成。請問,如何在實驗室階段降缺陷?
“用管式爐做1100度,800c去除表面損傷層,600c進行摻雜激活。石英坩堝內壁涂層氮化硼,減少雜質污染。這是你們現在最大的問題。
另外,良品率還涉及到中子嬗變摻雜、氫退火,外延層質量控制、光刻對準精度和離子注入均勻性等多環節優化。
相關問題,前幾天我在中研院物理所,與一眾專家進行過系統性的討論,抽時間你可以去請教,今天在這里就不贅述了。”
用最簡練的語言回答完問題,曲卓壓手示意男生坐下,視線轉向所有人“後面提問的省去前面的敬語,提問完自行坐下。讓你們站起來,是為了記住哪個提的問題,方便我下次檢查成果。”
“……”
所有人莫名的壓力感越發的強,以至于一個個的表情都拘謹的厲害。
“你們的年齡告訴我,應該都是碩博研究生。”曲卓清朗干脆的聲音在碩大的空間內回蕩“在你們這一階段,應該具備最基本的自主學習、探索能力、科研能力,以及團隊協作能力。
我告訴你們答案,是為了讓你們少走彎路。具體過程,需要你們自行摸索與解決,並做出歸納和總結。下次我站在這里時,要看到你們的實驗報告。”
說話間曲卓看向禮堂後方“請諸位師長僅為學生最基本的支持與便利。剩下的,博士帶碩士,學長帶學弟,先進帶後進,從組建團隊到實驗設計,再到具體實施,盡量讓他們自行完成。
不要怕犯錯,犯錯也是經驗的累積。
如此,才能盡快鍛煉出幾支,擁有獨立研發與設計能力的團隊,而不是一幫跟屁蟲式的實驗室助手。”
“……”
禮堂後方年齡較長和稍大的那些位,面上頷首認同,心里直打含糊。
支持?
拿什麼支持?
幾家的管式爐,最高溫度只能達到900到1000度……1100度?
還有氮化硼涂層……那是說涂就涂的麼?
問題是,听台上那貨的語氣,好像應該是隨手可得的,要提出來沒有……也太卡顏面啦。
年長者為了面子不吱聲,提問的年輕人同樣為了面子不吱聲,坐那默默的吞苦水……
同時在心里吶喊英雄,饒命呀~
空氣短暫的安靜後,一位工研院的年輕研究員率先醒過神,高舉起右臂。
待曲卓抬手示意後,起身“省內g 線光刻膠依賴進口。我們試著在實驗室自行合成時,光敏劑和樹脂總不兼容。請問,有解決辦法嗎?”
“鄰 二疊氮百分之八上下與酚醛樹脂1比9混合,平衡光敏性和膜厚穩定性。使用乙二醇單甲醚醋酸酯或甲基異丁基酮做主溶劑,控制膠液粘度在50到80厘泊,目標支持分辨率15微米。我等你出成果。”
曲卓話音落下時,已經有人翻開面前的筆記本開始記錄了……
翻開筆記本,甭管有用沒有都要做記錄……這是事先有要求的。
但某人節奏太快,以至于大家給忘了。
這會兒想起來記,是真的需要記……
“講。”曲卓示意舉手的……瞅著還算年輕,但應該是已婚的女人。
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“我的問題是,1微米工藝的vlsi做鋁布線,高溫狀態鋁、 互互相擴散,導致pn結漏電,實驗室層面有沒有……比較簡單的方法可以阻擋?”
“蒸鍍五十納米的鈦層,600度形成高阻c49相,800度轉化為低阻 c54 相形成tisi?阻擋層,可以阻止鋁擴散。布線改用含百分之一 的鋁合金,電阻率能降到每厘米2830微歐。
如果你努力一些,攻破電子束蒸發和快速熱退火,可以做到25微歐。不過,別想著申請專利。因為,我已經注冊過了。”
“……”
好多人在下意識吞口水。還有人想問“英雄,你是不是太高看我們啦?”
依舊是那句話決不能墜了自家的面子……硬憋!
“老師…我們課題組搭的16k dra,sio?介質層漏電,刷新周期不足15毫秒,該怎樣優化介質層?”
“用等離子體增強化學氣相沉積做 sio?,呃……你們可以用低壓化學氣相沉積或熱氧化工藝,厚度十二納米,擊穿場強能提到每厘米一千萬伏特,刷新周期應該能夠延長到2毫秒……回頭我送你們一套pecvd。”
這話一出口,台下不少人險些熱淚盈眶。
不是……或者說不止是因為能白得一套必然先進到根本沒有商業化生產的實驗室設備。
更想高聲吶喊“英雄,你終于意識到了麼?在你認知里就擺在手邊的東西,我們這里根本就沒有條件呀!”
與其他人不同,後排坐著的施敏在亢奮。
他為什麼過得那麼憋屈,還悶不吭聲的留在貝爾實驗室。
一方面是圖貝爾的“牌子”,說出去有面子,能襯托他的檔次,代表他的實力。
一方面是圖實驗室內先進的儀器和設備。
搞半導體器件,離不開硬件支持。他早就有心回彎省了,但彎省幾個實驗室的條件,根本就不足以支撐他的研究。
現在,就是此刻,他通過剛才台上“準老板”言語間透露出的信息,已經非常篤定了,答應的最頂尖的實驗室,一定是最頂尖的。
大概率比貝爾實驗室的條件要強的多。
實在太令人期待了……
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