沒有多少人知道，由院長鄧光輝院士和所長錢富強研究員率領光源研究所的140多名研發人員，經過近3年的潛心研究，在1999年7月就掌握了浸沒式光刻系統技術，研發成功全球第一台65nm制程工藝的浸沒式光刻機試驗機，避免刺激美國，秘而不宣，到去年6月17日才公開。
從1999年8月開始立項，bsec投資1億元，鄧國輝和錢富強帶領光刻機光源研究所，靜下心來開始研發euv的同時，在65nm制程工藝浸沒式光刻機的基礎上，經過近六年的潛心研究，研發成功45nm制程工藝浸沒式光刻機就不足為奇了。
光源研究所所長錢富強研究員憑借在全球頂尖光刻機期刊上發表的30多篇專業論文，在全球光刻機光源行業具有極高的威望，主持研發成功的65nm制程工藝浸沒式光刻機是全球首創，國際領先技術，具有百億美元的市場價值等重大貢獻，于去年11月，被遴選為工程院院士。
bsec光刻機研究院如今由鄧國輝、歐陽明、陳偉長、夏季常和錢富強等五位院士領餃，技術實力國內第一，在全球光刻機研究機構中也是名列前茅。
bsec光刻機研究院包括光刻機光源研究所（所長錢富強院士）、 片制造研究所（副院長兼所長歐陽明院士）、光刻機光學研究所（副院長兼所長陳偉長院士）、光刻機自動化研究所（所長夏季常院士）、光刻膠研究所（所長劉明堂研究員）、刻蝕機研究所（所長陳運復研究員）、光刻機熱處理研究所（所長楊鴻濤教授）、掩膜版研究所（所長郭興程研究員）、離子注入機研究所（所長景清雲教授）和光刻機半導體信息部（部長李廣均研究員）等九所一部。
近13年來，bsec光刻機研究院從國內外招聘了2147名教授（副教授）、研究員（副研究員）、高工、博士和碩士，構建完成了從光刻機光源、光刻機光學系統、光刻機自動化、 片制造、光刻膠、掩膜版、熱處理、刻蝕機、離子注入機和光刻機半導體信息部等完整的光刻機半導體技術體系和人才梯隊，制定了行之有效的人才培養制度，擁有相關技術專利7231項，其中核心技術專利79項。
招聘國內外相關專業博士畢業生常年不斷。
如今bsec每年申請公司發明專利近千項，相關科技成果如雨後春筍，層出不窮。
bsec在國內不是孤軍奮戰，同中k院、華清、燕大、哈工大、西工大、國科大、華中大、滬海 片制造廠、冰城光源材料廠、金城激光器制造廠和金城金屬氣體廠等60多家科研院所和公司建立了技術和產品合作機制，聯合開發最新一代的單晶 、光源材料、激光器材料和光刻氣體等技術項目，簽訂長期供貨合同，互利共贏。
不久的將來從這些合作公司中誕生幾家高科技上市公司只是時間問題。
如今，bsec掌握了浸沒式光刻機的核心技術，研發成功32nm、28nm、22nm、14nm、10nm制程工藝的浸沒式光刻機只是時間問題，已經不擔心被人卡脖子。
&n、5nm制程工藝高端芯片的euv光刻機是十幾年後的事情。
雖然gca擁有的euv激光器不可能給bsec使用，但鄧國輝和錢富強領餃的euv團隊已經研究euv激光器6年，雖然還沒有研發成功，但孫健一點都不擔心，10年不行，15年！
研發euv激光器的過程也是技術不斷積累、人才不斷成長的過程。
bsec不差錢！
1996年6月24日在鵬交所上市的bsec，經過多次送配，2005年中期年報顯示，總股本64.22億股，非流通股54.08億股，流通股10.14億股，總資產679.45億元，淨資產407.79億元，每股淨資產6.35元，中期營業收入447.62億元，同比增加233.25%，淨利潤161.14億元，同比增加235.87%，每股收益2.51元。
pgca和曙光東芝晶圓去年預定的3條65nm半導體生產線已于上半年交付；台聯電、intel和amd去年預定的3條65nm半導體生產線于下半年交付，今年的主營收入和淨利潤將創歷史記錄，每股收益預計將超過5元。
在鵬滬兩市大盤不斷創新低的大環境下，業績大增的bsec穩步上升，昨日收盤87.64元，如今是鵬滬兩市第一高價股；作為鵬滬兩市第一高科技股，但市盈率只有17.53倍，超過百元只是時間問題。
“tic以避免同業競爭為由，在市場上公開減持了10.5%的asml股份，將持有的股份降低到4.5%，林工，孫健大幅減持後，會不會不給asml授權？”
同以往pgca的新半導體生產線量產不同，18日，全球第一條65nm半導體生產線量產唯恐天下不知，邀請intel、amd、nvidia、ati、3dfx等全球芯片大佬參加量產儀式，願意為全球芯片研發公司代工生產芯片，一視同仁，轟動全球。
憂心忡忡的張仲謀找來林本堅商議。
&n制程工藝的半導體生產線，率先搶佔國內外高端芯片的市場份額；到年底，台聯電的一條65nm制程工藝的半導體生產線量產，搶佔台灣地區高端芯片的市場份額；到明年一月，intel和amd的二條65nm制程工藝的半導體生產線量產，搶佔美國高端芯片的市場份額。
全球高端芯片的市場份額被瓜分，到時，台積電連喝湯的機會都沒有了，張仲謀不著急是假的。
&nl預定了20台asml浸沒式光刻機，原計劃今年三月量產，8月到貨，明年3月就能量產，只比其他采用65nm制程工藝的bsec浸沒式光刻機半導體生產線晚半年左右，但計劃趕不上變化，由于asml侵犯了bsec的公司發明專利，被l浸沒式光刻機的專利申請，不能量產浸沒式光刻機！只能等l使用，明年5月才能拿到20台asml浸沒式光刻機，安裝調試和試生產後，明年底才能量產。
“董事長不必擔心，華人首富為人大方，不會不給asml授權的。”
&nl股要的緣由，只能安慰張仲謀。
（本章完）